اخبار انتخاب سردبیر

سرمایش مرکزداده با پاشیدن مایع دی‌الکتریک به تراشهٔ پردازندهٔ سرور

سرمایش مرکز داده با پاشیدن سیال خنک‌کنندهٔ دوفاز به پردازندهٔ سرور
سرمایش مرکزداده با پاشیدن سیال خنک‌کنندهٔ دوفاز به پردازندهٔ سرور

سرمایش مرکزداده با پاشیدن مایع دی‌الکتریک به تراشهٔ پردازندهٔ سرور

سرمایش مرکز داده با پاشیدن سیال خنک‌کنندهٔ دوفاز به پردازندهٔ سرور

گروه پژوهشی در دانشگاه صنعتی نانیانگ (NTU) سنگاپور، نوآوری سرمایشی جدیدی را برای مرکزداده آزمایش کرده‌اند که ساده ولی عجیب است: مایع دی‌الکتریکِ سرمایش غوطه‌وری در مایع را روی پردازنده‌های داغ اسپری کردند و گذاشتند تبخیر شود.

تصویر: مقایسهٔ سرمایش معمول با هیت‌سینک (راست) با پاشیدن سیال خنک‌کنندهٔ دوفاز به تراشهٔ سرور (چپ)

آن‌ها ۱۲ سرور را در یک محفظه اجرا کردند و سیال دی‌الکتریک را روی پردازنده‌ها (CPU) پاشیدند. مقاله‌ای که مجلهٔ انرژی (Journal Energy) در ماه آوریل دراین‌باره منتشر کرده نوشته است که سیستم‌ها در این آزمایش، بسیار بهتر از سرمایش معمول با هوا خنک شدند.

گروه آزمایش‌کننده این سیستم را معماری پاششی جدید «بدون چیلر» توصیف می‌کنند. آن‌ها می‌گویند با این روش می‌توان برای شار گرمایی (Heat Flux) بالا سرمایش فراهم کرد، بسیار توسعه‌پذیر (Scalable) است، همچنین به‌آسانی با مرکزدادهٔ مدرن سازگار می‌شود.

نمونهٔ اولیه (Prototype) یک رک 24U مهروموم‌شده است با ۱۲ سرور در یک محفظه. در آن مایع دی‌الکتریک را نازل‌ها روی هر پردازنده می‌پاشند تا تبخیر شود و سرور را خنک کند. سیال سپس برمی‌گردد و برای استفادهٔ دوباره فشرده و مایع می‌شود.

در حالی که بیشتر تأسیسات مرکزداده اکنون با سرمایش هوا و تهویهٔ مطبوع خنک می‌شوند، برخی سازندگان از جمله Submer و GRC و Asperitas، برای سرمایش فاوا روش غوطه‌وری در مایع دی‌الکتریک را پیشنهاد می‌کنند که هم گرما را کارآمدتر دفع می‌کند و هم مصرف انرژی را کاهش می‌دهد. سازندگان دیگر همچون LiquidCool و Zutacore سرمایش با سیال دوفاز را پیشنهاد می‌کنند. در این روش آن‌ها می‌گذارند سیال غوطه‌وری بجوشد تا گرمای بیشتری را از بین ببرد.

سرمایش مرکز داده با پاشیدن سیال خنک‌کنندهٔ دوفاز به پردازندهٔ سرور

با بهره‌گیری از نوآوری دانشگاه نانیانگ، وان‌های غول‌پیکر سازندگان سرمایش غوطه‌وری و لوله‌کشی عرضه‌کنندگان روش دوفاز و گرماگیرها (Heatsink) همگی کنار خواهند رفت. با این حال راهکارهای دوفاز کنونی از مواد پلی فلوئوروآلکیل (Poly-fluoroalkyl Substances – PFAS) استفاده می‌کنند که در گروه مواد خطرناک برای سلامتی نشانه‌گذاری شده‌اند.

پژوهشگران دانشگاه نانیانگ این ابتکار را اولین بار در سال ۲۰۲۱ برای تأسیسات مرکزداده مستقر در مناطق استوایی ارائه کردند. اجرای کنونی برپایهٔ نمونهٔ پیش‌اولیه و ارزیابی عملکرد سال ۲۰۲۲ اجرا شده است.

تهیه‌شده در باشگاه مراکزداده. منبع:

Singapore’s NTU proposes cooling servers by spraying chips with fluid

خبرهای مرتبط:

ـ انتخابی‌شدن سیال در سرمایش غوطه‌وری مرکزداده

ـ مقایسهٔ دو محصول سرمایش غوطه‌وری مرکزداده به‌روش تک‌فاز و دوفاز

درج دیدگاه

برای درج دیدگاه کلیک کنید

نشانی ایمیل شما منتشر نخواهد شد. بخش‌های موردنیاز علامت‌گذاری شده‌اند *

سوال امنیتی *